機(jī)械密封件研磨之化學(xué)機(jī)械研磨的特點(diǎn)

機(jī)械密封件研磨之化學(xué)機(jī)械研磨的研磨耗材

研磨耗材分為以下幾大類(lèi)：研磨液(Slurry)、研磨墊(Pad)、金剛石盤(pán)(Disk)、研磨頭(Head)、清洗刷(Brush)和化學(xué)清洗劑與保護(hù)劑(Chemical)等。

機(jī)械密封件研磨之化學(xué)機(jī)械研磨的特點(diǎn)

機(jī)械密封件研磨之化學(xué)機(jī)械研磨技術(shù)綜合了化學(xué)研磨和機(jī)械研磨的優(yōu)勢(shì)。單純的化學(xué)研磨，表面精度較高，損傷低，完整性好，不容易出現(xiàn)表面/亞表面損傷，但是研磨速率較慢，材料去除效率較低，不能修正表面型面精度，研磨一致性比較差；單純的機(jī)械研磨，研磨一致性好，表面平整度高，研磨效率高，但是容易出現(xiàn)表面層/亞表面層損傷，表面粗糙度值比較低。化學(xué)機(jī)械研磨吸收了兩者各自的優(yōu)點(diǎn)，可以在保證材料去除效率的同時(shí)，獲得較較好的表面，得到的平整度比單純使用這兩種研磨要高出1-2個(gè)數(shù)量級(jí)，并且可以實(shí)現(xiàn)納米級(jí)到原子級(jí)的表面粗糙度。